代表取締役社長 竹岡のインタビューが「電子デバイス産業新聞　1月13日号　10面」に取り上げられました。就任時の抱負「一番はじめに従業員の幸福を追求することが大切。これがあって会社としての基盤が固まる」との考えの元、熱処理技術のエキスパートとして進化し続け、持続可能な社会の実現に注力していることを紹介されました。

◆掲載記事は下記URLよりご覧いただけます。

http://www.koyo-thermos.co.jp/news/pdf/news_20220113.pdf

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工業加熱装置に関する技術情報を専用ページにて紹介します。

Smart FLEC浸炭炉の熱処理歪の低減

電子デバイス産業新聞WEB版「半導体業界最古参記者_泉谷渉の独り言」に当社紹介記事が掲載されました。第458回「熱」の応用技術で次世代産業のパイオニアを目指していく_当社半導体、電子部品、FPDなどに展開している紹介記事となっております。

WEB版「半導体業界最古参記者_泉谷渉の独り言」

第458回「熱」の応用技術で次世代産業のパイオニアを目指していく

下記URLより記事紹介をご覧ください。

https://www.sangyo-times.jp/article.aspx?ID=7543

当社の新製品ランプアニールシステムが「日刊工業新聞　11月18日号　機械面」に取り上げられました。本装置は、従来機比でスループットを33％高め、生産性向上に貢献に応える装置として紹介されました。SiCやGaN向けで金属膜の酸化防止のニーズにも対応できる装置です。

◆掲載記事は下記URLよりご覧いただけます。

http://www.koyo-thermos.co.jp/news/pdf/news_20211118.pdf

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◆ランプアニールシステム　RLA-4100-V　の装置紹介ページは下記URLよりご覧いただけます。

http://www.koyo-thermos.co.jp/products/handou/handou_rla4106v.html

装置の詳細については、下記URLよりお問い合わせください。

http://www.koyo-thermos.co.jp/others/contact_index.html

当社の新製品ランプアニールシステムが「電子デバイス産業新聞　11月11日号　10面」に取り上げられました。本装置は、従来機比でスループットを33％高め、生産性向上に貢献に応える装置として紹介されました。SiCやGaN向けで金属膜の酸化防止のニーズにも対応できる装置です。

◆掲載記事は下記URLよりご覧いただけます。

http://www.koyo-thermos.co.jp/news/pdf/news_20211111.pdf

※この記事の著作権は電子デバイス産業新聞の発行会社：産業タイムズ社に帰属し、当社は転載手続きを経た上で掲載しております。

◆ランプアニールシステム　RLA-4100-V　の装置紹介ページは下記URLよりご覧いただけます。

http://www.koyo-thermos.co.jp/products/handou/handou_rla4106v.html

装置の詳細については、下記URLよりお問い合わせください。

http://www.koyo-thermos.co.jp/others/contact_index.html