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MEMS用縦型炉 VF-5100
MEMS Type Vertical Furnace VF-5100

MEMS向けて豊富な出荷実績。
LP-CVDでは厚膜低応力Si3N4膜やPoly-Si膜に対応可能。
MEMS用縦型炉 VF-5100

特長

  • 生産ラインに合わせ、フレキシブルな装置構成可能
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載
  • 5枚一括+枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • ガスクリーニング対応でメンテナンス頻度を削減

〜Φ200mmのウェーハに対応し、50〜150枚処理まで選択が可能な生産ラインにあわせフレキシブルに対応。各種ご要求に応じ、応力制御も可能です。

型式 VF-5100
本体寸法(mm) 900(W)×1850(D)×2930(H) 1000(W)×1950(D)×3300(H)
ヒータ LGOヒータ
均熱長(mm) 750 960
ウェーハサイズ(mm) 〜Φ150 Φ200
一処理枚数 150枚
100枚(※)
使用温度 140〜1150℃
ウェーハ搬送 5枚一括+枚葉
オプション N2ロードロック、ホスト通信
各種サイズのウェーハ兼用可能、ボート回転機構
処理 酸化、拡散、LP-CVD、各種アニール
処理品 Si
※:低応力Si3N4は、100枚仕様となります。