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4〜8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-1200
Lamp Annealing System for Speedy Thermal Processing RLA-1200

4〜8インチウェーハ対応、R&Dにおいても高品位処理を実現したランプアニール装置。
真空(LP)環境・N2ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。
4〜8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-1200

特長

  • 4〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応
  • 手動サセプター搬送採用による低コスト
  • 上下面クロスランプ構造と均熱化装置の採用で面内温度均一性を向上
  • 耐真空設計された石英チューブにより確実なガス置換はもとより減圧中での処理が可能(オプション)
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

200℃/秒の高速昇温、4〜8インチウェーハ対応、手動サセプター搬送の採用で低コスト化を実現したR&D向けランプアニール装置です。ハロゲンランプによる上下クロスランプ構造採用で優れた面内温度均一性を実現、低コストと高品位処理を両立しています。耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。

本体寸法(mm) 1300(W)×1300(D)×1850(H)
使用温度範囲 400〜1200℃
昇温レート 最大200℃/sec
ランプ配列 上下面クロス配列
制御ゾーン数 6
ウェーハサイズ 4〜8インチ
ウェーハ搬送 手動
コントローラ Model RSC1000
オプション 真空対応、クリーンベンチ
用途 アニール、酸化(減圧中での処理、N2ロードロック環境での処理が可能)
処理品 4〜8インチウェーハ