コンタクトアニール用ランプアニールシステム RLA-4106-V
Lamp Annealing System for Rapid Thermal Process RLA-4106-V
Si、GaN、SiCなど各種ウェーハに対応。
真空ロードロック対応によりスループットが向上。
真空ロードロック対応によりスループットが向上。
特長
- チャンバおよび搬送部に真空ロードロックを標準搭載、高いスループットを実現
- SiCやGaNウェーハ向けにサセプタ自動載せ替え機能搭載
- 上下ともハロゲンランプをクロスに設置
- 6ゾーン制御で簡易に各々のパワー比率が設定可能
- 放射温度計により非接触でワークの温度を測定し、フィードバック制御が可能
本装置は、複数のハロゲンランプを熱源とし、ウェーハのアニールを短時間で高精度に処理する目的の生産用装置です。
| 使用温度範囲 | 400〜1200℃ |
|---|---|
| 昇温レート | 最大200℃/sec |
| ランプ配列 | 上下面クロス配列 |
| 制御ゾーン数 | 6 |
| ウェーハサイズ(mm) | Φ150 ※Φ200mm対応も可能 |
| ウェーハ搬送 | 真空対応クリーンロボット |
| 処理 | アニール、酸化 |
| 処理品 | Si、SiCウェーハ、GaN 他 |
