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R&D 少量生産用縦型炉 VF-1000
Vertical Furnace for a small of production and R&D VF-1000

実験・研究(R&D)用途で高品位なプロセスを実現する少量生産用縦型炉。
小型で接地面積が少なくすみながらも、
幅広いウェーハ径に対応し量産機と同一の温度特性を発揮。
R&D 少量生産用縦型炉 VF-1000

特長

  • R&Dにおいても高品位なプロセスを実現
  • ミニバッチ、最大25枚処理の選択が可能
  • 2〜8インチ及び300mmと幅広いウェーハサイズに対応
  • LGOヒータ搭載により、量産機と同一の温度特性を発揮
  • 機能を限定した簡易型制御システムを採用

ミニバッチ、最大25枚の選択処理が可能で、2インチ〜8インチ、および300mmまで幅広いウェーハサイズに対応した実験・研究(R&D)、少量生産用縦型炉です。LGOヒータを初めとする各種ヒータの採用で、量産機と同一の炉口構造とヒータ性能でプロセス開発が可能です。シリコンウェーハ向けの各種処理(LPCVD,酸化拡散)や、パワーデバイス(Si、SiC)向けの開発用途で、ゲート酸窒化や活性化アニールなどの幅広いプロセスに対応可能です。

本体寸法(mm) 1500(W)×1000(D)×2100(H) (〜8インチ標準)
ヒータ LGOヒータ
均熱長(mm) 160〜250
ウェーハサイズ 〜8インチ
最大処理枚数 25枚
コントローラ Model 880
オプション 強制冷却システム、N2ロードロック、25〜150枚処理対応(VF-2000)、
300mm対応
用途 酸化・拡散(リン拡散、ボロン拡散、パイロジェニック酸化、
ウェット酸化、ドライ酸化)、アニール処理
処理関連品 オキシ塩化リン(POCl3)、三臭化ホウ素(BBr3)
処理品 シリコンウェーハ 炭化ケイ素材 (パワーデバイス向け)
当社では、設備導入を検討のお客様のためにデモ装置を準備しております。
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