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枚葉搬送ミニバッチタイプ縦型炉 VF-3000/VF-3000H
Single wafer trensfer Type Vertical Furnace for Mini Batch VF-3000/VF3000H

R&D〜量産まで使用可能な〜Φ200mmウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。
後工程ユーザーにもご採用いただける低コストを実現。
超高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。
枚葉搬送ミニバッチタイプ縦型炉 VF-3000/VF-3000H

特長

  • ミニバッチ、50〜75枚処理の選択が可能、R&Dから量産ラインに対応
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • 枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • 使いやすさを追及した簡易型制御システムを採用
  • 二珪化モリブデンヒータやカーボンヒータを搭載(Hタイプ)し、超高温プロセスにも対応
  • 機密性の高いチャンバー構造を採用

ミニバッチ、50〜75枚の選択処理が可能で、〜Φ200mmまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、酸化、拡散、LP-CVDはもちろん、SiCパワーデバイスのゲート酸窒化や活性化アニール向け処理など超高温プロセスにも対応します。

型式 VF-3000 VF-3000H
本体寸法(mm) 1200(W)×1450(D)×2610(H) 1500(W)×1710(D)×2810(H)
ヒータ LGOヒータ 二珪化モリブデンヒータ カーボンヒータ
均熱長(mm) 360 250
ウェーハサイズ
(mm)
〜Φ200 〜Φ150
一処理枚数 〜Φ150:75枚
 Φ200:50枚
50枚
使用温度 200〜1150℃ 700〜1400℃ 700〜1850℃
ウェーハ搬送 枚葉
オプション N2ロードロック
強制冷却システム
ウェーハサイズの兼用可能
ボート回転機構
N2ロードロック
処理 酸化、拡散、LP-CVD
各種アニール
高温酸化、酸窒化 活性化アニール
処理品 Si、GaAs、InP、GaN
Ga2O3
Si、SiCウェーハ