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ミニバッチ縦型炉 VF-3000
Mini Batch Vertical Furnace VF-3000

R&D〜量産まで使用可能な4〜8インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。
後工程ユーザーにもご採用いただける低コストを実現。
超高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。
ミニバッチ縦型炉 VF-3000

特長

  • ミニバッチ、50〜75枚処理の選択が可能、R&Dから量産ラインに対応
  • 4〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応
  • 最大4個のカセットストッカー
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • 枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • 機能を限定した簡易型制御システムを採用

ミニバッチ、50〜75枚の選択処理が可能で、4インチ〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン(Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理はもちろん、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化や活性化アニールなど超高温プロセスにも対応します。

本体寸法(mm) 1200(W)×1400(D)×2550(H)
ヒータ LGOヒータ
均熱長(mm) 350〜500
ウェーハサイズ 4〜8インチ
最大処理枚数 75枚
I/Oポート 4
カセットストック 4
ウェーハ搬送 枚葉
コントローラ Model 880
オプション 強制冷却システム、N2ロードロック、300mm対応、ウェーハサイズの兼用可能
用途 酸化・拡散・CVD、活性化アニール処理
処理対象 ナイトライド(SiN)、ドープドポリシリコン(Si3N4)
処理品 シリコンウェーハ、薄型ウェーハ(パワーデバイス向け)