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高温活性化アニール炉 VF-3000H
Vertical Furnace for Activation annealing VF-3000H

超高温処理が可能でSiCパワーデバイス製造に最適。
R&D〜量産まで使用可能な75〜200mmウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。
活性化アニール炉 VF-3000H

特長

  • ミニバッチ、50枚処理、R&Dから量産ラインに対応
  • 75〜200mmまで幅広いウェーハサイズに対応
  • 炉内は当社独自のメタルフリー構造
  • ウェーハ近傍の温度モニターが可能
  • N2ロードロックを標準装備
  • C to C搬送を備え、高スループットを実現
  • H2雰囲気でのトレンチラウンド化アニールに対応
    (オプション)

ミニバッチ、50枚の処理が可能で、Φ75〜Φ200mmまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選した縦型炉です。炉内は当社独自のメタルフリー構造です。実験機(ウェーハ搬送無し)も対応可能です。活性化アニールの超高温プロセスにも対応します。

使用温度範囲 700〜1850℃(H2アニール時、〜1800℃)
ウェーハサイズ(mm) Φ75〜Φ200
最大処理枚数 50枚
使用ガス N2、Ar、H2(オプション)
処理 活性化アニール