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ゲート絶縁膜形成用縦型炉 VF-3000H
Vertical Furnace for Gate Insulation VF-3000H

高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。酸窒化処理が可能。
R&D〜量産まで使用可能な〜8インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉。
活性化アニール炉 VF-3000H

特長

  • ミニバッチ、50枚処理、R&Dから量産ラインに対応
  • 〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応
  • 炉内は当社独自のメタルフリー構造
  • 各種酸化/酸窒化の連続処理が可能
    (Wet/Dry酸化、H2アニール、NH3窒化、NO/N2O酸窒化)
  • チャンバークリーニング機構(オプション)

ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応します。ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。炉内は当社独自のメタルフリー構造です。高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適です。酸窒化処理が可能です。

使用温度範囲 700〜1400℃
ウェーハサイズ 3〜8インチ
最大処理枚数 50枚
使用ガス N2、Ar、H2、NO、N2O、NH3
オプション N2ロードロック、チャンバークリーニング機構
用途 SiCパワーデバイス用、酸窒化、窒化、酸化、研究開発、量産用