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量産型フレキシブル縦型炉 VF-5100
Mass-Production Model Flexible Vertical Furnace VF-5100

4〜8インチ対応、超高温処理が可能なラージバッチ拡散・LPCVD縦型炉。
生産ラインにあわせたフレキシブルな装置構成で多品種処理に対応。
パワーデバイス製造に最適。
量産型フレキシブル縦型炉 VF-5100

特長

  • 生産ラインに合わせ、フレキシブルな装置構成可能
  • 50〜150枚処理の選択可能
  • 4〜8インチまで幅広いウェーハサイズに対応
  • 4〜8個のカセットストッカー
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • 枚葉+5枚一括搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

4インチ〜8インチサイズのウェーハに対応し、処理枚数も50〜150枚処理まで選択が可能な生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータ、カーボンヒータを使い分けることにより、低温アニールやナイトライド(Si3N4)、ポリシリコン(Poly Si)などのLPCVDや酸化拡散処理はもちろん、SiCパワーデバイス向けのゲート酸窒化や活性化アニールなど超高温プロセスにも対応します。

本体寸法(mm) 1000(W)×1850(D)×3250(H) (8インチ×150枚)
ヒータ LGOヒータ
均熱長(mm) 350〜960
ウェーハサイズ 4〜8インチ
最大処理枚数 150枚
I/Oポート 1
カセットストック 4〜8
ウェーハ搬送 枚葉+5枚一括
コントローラ Model VSC1000
オプション 強制冷却システム、N2ロードロック、HOST通信(HSMS/GEM)、
薄型ウェーハ(100μm〜)対応、ウェーハサイズの兼用可能
用途 酸化・拡散・CVD、活性化アニール処理
処理対象 ナイトライド(SiN)、ドープドポリシリコン(Si3N4)
処理品 シリコンウェーハ、薄型ウェーハ(パワーデバイス向け)