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量産用ストッカー式縦型炉 VF-5300/VF-5300H
Stocker Type Vertical Furnace for Mass-Production VF-5300/VF5300H

〜Φ200mmウェーハ対応、超高温処理が可能なストッカー内蔵ラージバッチ縦型炉。
酸化・拡散・LPCVD、活性化アニールなど各種プロセスに対応可能。
8インチウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5300/VF5300H

特長

  • 最大20個のカセットストッカーによる連続バッチ処理が可能
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載
  • 5枚一括+枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • 二珪化モリブデンヒータを搭載のHタイプをラインアップ
  • 機密性の高いチャンバー構造を採用(Hタイプ)

Φ200mmウェーハ最大150枚、20個のカセットストッカーを備え、連続バッチ処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータ、二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータを使い分けることにより、酸化、拡散、LP-CVDはもちろん、SiCパワーデバイスのゲート酸窒化処理など超高温プロセスにも対応します。

型式 VF-5300 VF-5300H
本体寸法(mm) 1000(W)×1950(D)×3300(H)
ヒータ LGOヒータ 二珪化モリブデンヒータ
均熱長(mm) 960 500
ウェーハサイズ(mm) Φ150〜200 〜Φ200
一処理枚数 150枚 〜Φ150:100枚
 Φ200:75枚
使用温度 140〜1150℃ 700〜1400℃
ウェーハ搬送 5枚一括+枚葉
オプション N2ロードロック、SMIF対応
ホスト通信、強制冷却システム
薄ウェーハ対応、ボート回転機構
N2ロードロック、SMIF対応
ホスト通信
処理 酸化、拡散、LP-CVD、各種アニール 高温酸化、酸窒化
処理品 Si、GaAs、InP、GaN、Ga2O3 Si、SiCウェーハ