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300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700
Vertical Furnace for 300mm Wafer VF-5700

酸化・拡散・LP-CVD、アニール他の熱処理に対応できる装置。
高さ3000mm以下でサイズ的に導入しやすく、
短タクトタイム・高スループットを実現したモデル。
300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700

特長

  • ミニバッチ、25〜50枚一括処理でフレキシブルな処理能力を発揮
  • 高速昇温可能なハイパワーヒータ搭載でスループット向上
  • 枚葉による高速ウェーハ搬送
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

Φ300mmウェーハの短タクトタイム・高スループット処理が可能なミニバッチ25〜50枚一括処理タイプの縦型拡散炉です。ストッカースペースを削減した設計のため、全高3000mm以下で導入しやすいサイズになっています。ストッカーレスで導入されるケースも多く、ストッカー関連のコストを抑えることも可能です。LGOヒータ採用で低温〜中高温までの広い範囲で優れた温度特性を発揮します。

※製品やサービスの提供を通じて地球環境・社会的課題を解決した事例をご紹介いたします。
・事例[半導体製造装置] Fan-Outウェーハの搬送安定性の向上

本体寸法(mm) 1100(W)×2000(D)×2950(H)
ヒータ LGOヒータ
均熱長(mm) 500
ウェーハサイズ(mm) Φ300
一処理枚数 50枚
I/Oポート 2
ウェーハ搬送 枚葉
オプション N2ロードロック、強制冷却システム、5枚一括+枚葉(ウェーハ搬送)
均熱長750mm(最大処理枚数75枚)、ボート回転機構、ホスト通信
処理 酸化・拡散・LP-CVD処理、アニール他
処理品 Si