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300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700
Vertical Furnace for 300mm Wafer VF-5700

シリコンウェーハ、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハの酸化・拡散・CVD熱処理装置。
高さ3000mm以下でサイズ的に導入しやすく、
短タクトタイム・高スループットをを実現したモデル。
300mmウェーハ対応・ミニバッチ縦型炉 VF-5700

特長

  • ミニバッチ、25〜50枚一括処理でフレキシブルな処理能力を発揮
  • 最大12個のFOUPストッカー
  • 高速昇温可能なハイパワーヒータ搭載でスループット向上
  • 枚葉+5枚一括搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

300mm・12インチウェーハの短タクトタイム・高スループット処理が可能なミニバッチ25〜50枚一括処理タイプの縦型拡散炉です。ストッカースペースを削減した設計のため、全高3000mm以下で導入しやすいサイズになっています。ストッカーレスで導入されるケースも多く、ストッカー関連のコストを抑えることも可能です。LGOヒータ採用で低温〜中高温までの広い範囲で優れた温度特性を発揮し、シリコンウェーハ以外にもIGBT、ポリイミド、薄ウェーハなどの熱処理に適しています。

本体寸法(mm) 1250(W)×3200(D)×2850(H)
ヒータ ハイパワーLGOヒータ(標準内径:Φ550mm)
均熱長(mm) 500
ウェーハサイズ(mm) 300
最大処理枚数 50枚
I/Oポート 2
FOUPストック 12
ウェーハ搬送 枚葉+5枚一括
コントローラ Model VSC1000
オプション 強制冷却システム、N2ロードロック、HOST通信(GEM300)、ストッカーレス仕様
用途 酸化・拡散・CVD処理
処理品 シリコン、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハ