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300mmウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5900
Vertical Furnace for 300mm Wafer VF-5900

シリコンウェーハ、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハの酸化・拡散・CVD熱処理装置。
大容量ストッカーを備え、短タクトタイムを実現したフラッグシップモデル。
300mmウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5900

特長

  • ラージバッチ、最大100枚一括処理可能
  • 最大16個のFOUPストッカー
  • LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮
  • 枚葉+5枚一括搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送
  • オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載

300mm・12インチウェーハ最大100枚、FOUP16個の一括処理が可能なラージバッチ量産タイプの縦型拡散炉です。LGOヒータの採用で低温〜中高温まで優れた温度特性を発揮します。シリコンウェーハ以外にもIGBT、ポリイミド、薄ウェーハなどの熱処理に適しています。

本体寸法(mm) 1250(W)×3200(D)×3400(H)
ヒータ LGOヒータ(標準内径:Φ500mm)
均熱長(mm) 1040
ウェーハサイズ(mm) 300
最大処理枚数 100枚
I/Oポート 2
FOUPストック 16(標準)
ウェーハ搬送 枚葉+5枚一括
コントローラ Model VSC1000
オプション 強制冷却システム、N2ロードロック、HOST通信(HSMS/GEM)
用途 酸化・拡散・CVD処理
処理品 シリコン、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハ
当社では、設備導入を検討のお客様のためにデモ装置を準備しております。
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