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大口径縦型炉 VFS-4000
Large caliber Vertical Furnace VFS-4000

半導体製造装置の技術をガラス基板製造へ投入した、4.5G・5.5G対応大口径縦型炉。
低コンパクションで有機EL(OLED/AMOLED)のフリットシール工程、脱水処理に適しています。
大口径縦型炉 VFS-4000

特長

  • 減圧処理、常圧処理に対応可能
  • 各種ガスシステムに対応可能
  • 最大基板サイズ 730×920(mm)
  • 大型LGOヒータにより優れた温度特性を発揮
  • 半導体縦型炉をFPD向けに大型化

半導体製造の厳しい温度特性制御、雰囲気管理、パーティクル管理のノウハウをFPD向けに投入した大口径縦型炉です。石英ボート採用で低パーティクル、メタルフリーを実現、O2濃度10ppm以下の真空処理が可能です。タッチパネルなどのコンタクトアニール、ポストベーク、活性化アニールなどの処理に適しています。

本体寸法(mm) 2000(W)×2000(D)×4350(H) (炉体のみ)
ヒータ LGOヒータ
使用温度範囲 200〜600℃
基板サイズ(mm) 730×920
一処理枚数 20〜25枚
温度均一性 ±3℃以下
チャンバー材質 高純度石英
オプション 基板搬送システム、ホスト通信、Fan-out対応
処理 コンタクトアニール、ポストベーク、活性化アニール、Fan-out対応
処理品 4.5G・5.5Gガラス基板