光洋サーモシステム株式会社

	量産型フレキシブル縦型炉 VF-5100	4～8インチ対応、超高温処理が可能なラージバッチ拡散・LPCVD縦型炉。生産ラインにあわせたフレキシブルな装置構成で多品種処理に対応。パワーデバイス製造に最適。
	R&D 少量生産用縦型炉 VF-1000	実験・研究(R&D)用途で高品位なプロセスを実現する少量生産用縦型炉。小型で接地面積が少なくすみながらも、幅広いウェーハ径に対応し量産機と同一の温度特性を発揮。
	ミニバッチ縦型炉 VF-3000	R&D～量産まで使用可能な4～8インチウェーハ対応の低価格・自動搬送搭載縦型炉。後工程ユーザーにもご採用いただける低コストを実現。超高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。
	太陽光発電セル用横型炉 Model 206A	太陽電池(ソーラー)・太陽光発電(PV)セル製造に最適な横型炉。100～156角ウェーハに対応し、1バッチ200～400枚の大量処理が可能。
	4～8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-3100	4～8インチウェーハ対応、真空(LP)環境・N₂ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。上下クロスランプ構造(ハロゲン)と均熱化装置の採用で面内温度均一性が向上。
	4～8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-1200	4～8インチウェーハ対応、R&Dにおいても高品位処理を実現したランプアニール装置。真空(LP)環境・N₂ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。

	枚葉式クリーンオーブン CCBSシリーズ	液晶(LCD)、有機EL(OLED)、クリーン加熱オーブンのベストセラー！基板へのゼロダメージ化、カラーフィルターレジストポストベーク時の昇華物対応。
	ローラーハース式連続炉 RHシリーズ	第10世代までの液晶(LCD)、有機EL(OLED)基板の真空脱水ベーク、アニール処理が可能。前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態に対応。

	メッシュベルト炉標準マッフル炉	マッフル採用で炉内雰囲気の安定性・再現性に優れたメッシュベルト式連続炉。ロー付けやハンダ付け、厚膜焼成、電極乾燥、脱バインダー処理に最適。
	メッシュベルト炉水素雰囲気炉	各種金属のロー付け、ガラスシールなどの還元雰囲気処理を目的としたメッシュベルト式連続炉。安全機構に配慮した水素雰囲気機構で、容易な取り扱いが可能です。
	メッシュベルト炉マルチ給排気N₂雰囲気炉	最新のガスコントロール技術で高精度なN₂雰囲気分離を実現したメッシュベルト式連続炉。LTCC基板やMLCC製造、脱バインダー処理、粉末冶金の焼結に最適。
	セラミックコンベア式連続炉	耐熱性・耐摩耗性に優れた特殊セラミックチェーンを搬送コンベアとして採用。マッフルレス、セラミックセミマッフル、金属マッフルなどのタイプが選択可能。
	小型コンベア炉810A	小型で設置面積が少なくてすみ、各種雰囲気での熱処理が可能。厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。
	連続オーブン	FPD製造用、実験用クリーンオーブンの技術を活かしたオリジナル製造の連続オーブン。電子部品・ディスク・ガラエポ基板(エポキシガラス積層板)・フィルムの乾燥、キュア、アニールに。

	KBF1250℃シリーズ応用製品 KBF1250-S	KBF1250℃シリーズに金属マッフルを装備し、1000℃での気密容器内処理が可能な実験・研究ラボ用途の卓上タイプ電気炉(箱型炉：ボックス炉)。
	小型真空パージ式ボックス炉 μBF	多くの納入実績を持つKBFシリーズをベースに、真空パージ構造で置換時間の短縮を実現。N₂雰囲気、水素(還元)雰囲気での熱処理が可能な多目的箱型電気炉(ボックス炉)。
	小型コンベア炉 810A	小型で設置面積が少なくてすみ、水素(還元)雰囲気での熱処理が可能。厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。
	真空ベーク炉	真空環境下での加熱処理を目的として開発された箱型電気炉(ボックス炉)。短タクトタイムでベーク、乾燥、脱脂、硬化、アニールなど多彩な処理が可能。
	高温雰囲気ボックス炉	二珪化モリブデンヒーター採用で1600℃までの高温処理が可能。窒素(N₂)、水素、真空など各種雰囲気での焼成、焼結、焼鈍が行える箱型電気炉(ボックス炉)。
	真空パージ式ボックス炉 MB炉	小型電気炉KBF1150℃タイプをフロア型ボックス炉としてリファイン。真空パージにより、窒素(N₂)雰囲気置換時間を短縮。LTCC、MLCC製造に。
	ヒータ式排ガス処理装置 GMシリーズ	セラミックの仮焼結、電子部品脱脂工程の排ガス中に含まれる有機物を完全燃焼。最高850℃での排出ガス加熱分解処理が可能。