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ディスプレイ・モバイル

半導体製造装置

大口径縦型炉 VFS-4000 大口径縦型炉 VFS-4000 半導体製造装置の技術をガラス基板製造へ投入した、4.5G・5.5G対応大口径縦型炉。低コンパクションで有機EL(OLED/AMOLED)のフリットシール工程、脱水処理に適しています。

先端技術製造装置

枚葉式クリーンオーブン CCBSシリーズ 枚葉式クリーンオーブン CCBSシリーズ 液晶(LCD)、有機EL(OLED)、クリーン加熱オーブンのベストセラー!基板へのゼロダメージ化、カラーフィルターレジストポストベーク時の昇華物対応。
枚葉式IRオーブン CCBS-IRシリーズ 枚葉式IRオーブン CCBS-IRシリーズ IR加熱タイプの枚葉式クリーンオーブン、CCBS-IRシリーズ。次世代ディスプレイ用TFTであるIGZOをはじめ、液晶(LCD)、有機EL(OLED)の各種焼成処理に。
真空乾燥装置 CCBS-Vspec 真空乾燥装置 CCBS-Vspec 第10世代までの液晶(LCD)、有機EL(OLED)基板の真空脱水ベーク、アニール処理が可能。前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態に対応。
ローラーハース式連続炉 RHシリーズ ローラーハース式連続炉 RHシリーズ 第10世代までの液晶(LCD)、有機EL(OLED)基板の真空脱水ベーク、アニール処理が可能。前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態に対応。
クリーンバッチシステム CBSシリーズ クリーンバッチシステム CBSシリーズ LTPS(低温ポリシリコン)処理に最適なバッチ式クリーンオーブン。スペックとコストを両立したスタンダードモデル。雰囲気処理も可能。
ウォーキングビーム式クリーンオーブン WBシリーズ ウォーキングビーム式クリーンオーブン WBシリーズ 発塵の少ないウォーキングビーム方式を採用!耐熱カセットの一括搬送で高効率化を実現。
樹脂ベルト式乾燥炉 RBシリーズ 樹脂ベルト式乾燥炉 RBシリーズ 各種保護シート、フィルム加熱用

電子部品製造装置

メッシュベルト炉 標準マッフル炉 メッシュベルト炉 標準マッフル炉 マッフル採用で炉内雰囲気の安定性・再現性に優れたメッシュベルト式連続炉。ロー付けやハンダ付け、厚膜焼成、電極乾燥、脱バインダー処理に最適。
メッシュベルト炉 マルチ給排気N<sub>2</sub>雰囲気炉 メッシュベルト炉 マルチ給排気N2雰囲気炉 最新のガスコントロール技術で高精度なN2雰囲気分離を実現したメッシュベルト式連続炉。LTCC基板やMLCC製造、脱バインダー処理、粉末冶金の焼結に最適。
メッシュベルト炉 マッフルレス炉 メッシュベルト炉 マッフルレス炉 放散熱を抑制し、省エネ効果を高めたマッフルレス炉(大気炉)。LTCC基板やインダクタ製造、厚膜焼成、ガラス封止に最適。
セラミックコンベア式連続炉 セラミックコンベア式連続炉 耐熱性・耐摩耗性に優れた特殊セラミックチェーンを搬送コンベアとして採用。マッフルレス、セラミックセミマッフル、金属マッフルなどのタイプが選択可能。
小型コンベア炉810A 小型コンベア炉810A 小型で設置面積が少なくてすみ、各種雰囲気での熱処理が可能。厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。
真空リフロー炉 真空リフロー炉 パワーモジュールのハンダ付け時のボイド増加、はんだぬれ性低下、部品メッキ酸化などの問題を解決。急速加熱に対応したハロゲンランプ採用、N2ガス雰囲気置換が可能。
連続オーブン 連続オーブン FPD製造用、実験用クリーンオーブンの技術を活かしたオリジナル製造の連続オーブン。電子部品・ディスク・ガラエポ基板(エポキシガラス積層板)・フィルムの乾燥、キュア、アニールに。

科学機器

イナートガスオーブン INLシリーズ イナートガスオーブン INLシリーズ 窒素(N2)雰囲気による低酸素(O2)濃度20ppm以下の環境で熱処理が行える熱風循環式オーブン。セラミック部品の脱バインダー(脱脂)や、アニールなどの効果的な熱処理を実現。
イナートガスオーブン INHシリーズ イナートガスオーブン INHシリーズ 最高使用温度600℃の高温で、窒素(N2)雰囲気による低酸素(O2)濃度20ppmを達成。セラミック部品の脱脂、各種無酸化処理で多くの実績を持つ生産向けタイプ。
小型イナートガスオーブン KLO-30NH 小型イナートガスオーブン KLO-30NH 小型・コンパクトサイズで実験・研究に最適な窒素(N2)雰囲気オーブン。脱バインダー、脱脂、アニールなどの熱処理を低酸素(O2)濃度300ppm以下で実現。
クリーンオーブン CLOシリーズ クリーンオーブン CLOシリーズ 内槽全周シール構造による高気密化でクラス100の空気清浄度を達成、窒素(N2)雰囲気の処理も可能。温度均一性に優れた熱風循環方式の採用でキュア、アニール処理の歩留まりを向上。
ハイテンプクリーンオーブン CLHシリーズ ハイテンプクリーンオーブン CLHシリーズ 耐熱高性能フィルターと独自冷却器の採用でクリーン環境下での高温ベークが可能。熱風循環方式でウェハー、ガラス基板のベーキング・エージング、ポリイミドキュア、アニールを高精度処理。
排ガス燃焼装置 GMシリーズ 排ガス燃焼装置 GMシリーズ セラミックの仮焼結、電子部品脱脂工程の排ガス中に含まれる有機物を完全燃焼。最高850℃での排出ガス加熱分解処理が可能。