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研究室・実験室

工業加熱装置

真空熱処理炉 真空熱処理炉 真空環境下での焼入、ロー付け、焼鈍の処理が可能。焼入油槽やガス冷室が別室になった2室炉、3室炉などもラインアップ。
真空パージ式加熱炉 真空パージ式加熱炉 モルダサームヒータ、金属マッフルを採用した外熱型の真空パージ式加熱炉。

半導体製造装置

R&D 少量生産用縦型炉 VF-1000 R&D 少量生産用縦型炉 VF-1000 実験・研究(R&D)用途で高品位なプロセスを実現する少量生産用縦型炉。小型で接地面積が少なくすみながらも、幅広いウェーハ径に対応し量産機と同一の温度特性を発揮。
ミニバッチ縦型炉 VF-3000 ミニバッチ縦型炉 VF-3000 R&D〜量産まで使用可能な4〜8インチウェーハ対応の低価格・自動搬送搭載縦型炉。後工程ユーザーにもご採用いただける低コストを実現。超高温処理が可能でパワーデバイス製造に最適。
量産〜実験用横型炉 Model 200 series 量産〜実験用横型炉 Model 200 series 小型実験・研究(R&D)から量産までニーズに合わせた装置設計が可能。シリコンウェーハはもちろん、太陽電池(ソーラー)・太陽光発電(PV)の生産用途にも使用できる横型炉。
4〜8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-1200 4〜8インチ対応ランプアニール(RTP)装置 RLA-1200 4〜8インチウェーハ対応、R&Dにおいても高品位処理を実現したランプアニール装置。真空(LP)環境・N2ロードロック雰囲気での活性化、酸化処理が可能。

先端技術製造装置

枚葉式クリーンオーブン CCBSシリーズ 枚葉式クリーンオーブン CCBSシリーズ 液晶(LCD)、有機EL(OLED)、クリーン加熱オーブンのベストセラー!基板へのゼロダメージ化、カラーフィルターレジストポストベーク時の昇華物対応。
枚葉式IRオーブン CCBS-IRシリーズ 枚葉式IRオーブン CCBS-IRシリーズ IR加熱タイプの枚葉式クリーンオーブン、CCBS-IRシリーズ。次世代ディスプレイ用TFTであるIGZOをはじめ、液晶(LCD)、有機EL(OLED)の各種焼成処理に。
真空乾燥装置 CCBS-Vspec 真空乾燥装置 CCBS-Vspec 第10世代までの液晶(LCD)、有機EL(OLED)基板の真空脱水ベーク、アニール処理が可能。前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態に対応。
クリーンバッチシステム CBSシリーズ クリーンバッチシステム CBSシリーズ LTPS(低温ポリシリコン)処理に最適なバッチ式クリーンオーブン。スペックとコストを両立したスタンダードモデル。雰囲気処理も可能。

電子部品製造装置

小型コンベア炉810A 小型コンベア炉810A 小型で設置面積が少なくてすみ、各種雰囲気での熱処理が可能。厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。

科学機器

KBF1150℃シリーズ KBF1150℃シリーズ 実験・研究ラボ用途の卓上タイプ電気炉(箱型炉:ボックス炉)。モルダサームLGOヒーター採用で高速昇降温、省エネを実現した1150℃処理スタンダードタイプ。
KBF1250℃シリーズ KBF1250℃シリーズ 実験・研究ラボ用途の卓上タイプ電気炉(箱型炉:ボックス炉)。モルダサームLGOヒーター採用で高速昇降温、省エネを実現、マッフル最高処理が可能。
KBF1500℃シリーズ KBF1500℃シリーズ 卓上タイプでありながらSiCヒーター採用で1500℃対応の電気炉(箱型炉:ボックス炉)。SiCヒーター採用で高速昇温と省エネを実現。プログラマーによるオートモードでの実験が可能。
KBF1700℃シリーズ KBF1700℃シリーズ 卓上タイプでありながら1700℃対応のハイテンプ電気炉(箱型炉:ボックス炉)。長寿命二珪化モリブデンヒーター採用でヒーター交換も容易。プログラマーは19パターンの高性能タイプ。
KBF1800℃シリーズ KBF1800℃シリーズ 卓上タイプでありながら1800℃対応のハイテンプ電気炉(箱型炉:ボックス炉)。長寿命二珪化モリブデンヒータ採用でヒータ交換も容易。プログラマーは19パターンの高性能タイプ。
KBF1250℃シリーズ 応用製品 KBF1250-S KBF1250℃シリーズ 応用製品 KBF1250-S KBF1250℃シリーズに金属マッフルを装備し、1000℃での気密容器内処理が可能な実験・研究ラボ用途の卓上タイプ電気炉(箱型炉:ボックス炉)。
KTF1100℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 KTF1100℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 実験・研究ラボ用途の電気炉(管状炉:チューブ炉)。 横型・卓上タイプで省エネ。炉芯管で雰囲気処理が可能。
KTF1100℃シリーズ 3ゾーン制御用管状炉 KTF1100℃シリーズ 3ゾーン制御用管状炉 実験・研究ラボ用途の3ゾーン制御高精度タイプ電気炉(管状炉:チューブ炉)。横型・卓上タイプで省エネ。炉芯管で雰囲気処理が可能。
KTF1200℃シリーズ 3ゾーン制御用管状炉 KTF1200℃シリーズ 3ゾーン制御用管状炉 実験・研究ラボ用途の3ゾーン制御高精度タイプ電気炉(管状炉:チューブ炉)。全ゾーン過熱防止計、半割式モルダサームヒーター採用のグレードアップタイプ。
KTF1500℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 KTF1500℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 実験・研究ラボ用途のSiCヒーター採用の電気炉(管状炉:チューブ炉)。横型・卓上タイプで省エネ。炉芯管追加で雰囲気処理が可能。
KTF1700℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 KTF1700℃シリーズ 1ゾーン制御用管状炉 実験・研究ラボ用途のMoSiO2ヒーター採用の電気炉(管状炉:チューブ炉)。横型・卓上タイプで省エネ。炉芯管追加で雰囲気処理が可能。
小型真空パージ式ボックス炉 μBF 小型真空パージ式ボックス炉 μBF 多くの納入実績を持つKBFシリーズをベースに、真空パージ構造で置換時間の短縮を実現。N2雰囲気、水素(還元)雰囲気での熱処理が可能な多目的箱型電気炉(ボックス炉)。
小型コンベア炉 810A 小型コンベア炉 810A 小型で設置面積が少なくてすみ、水素(還元)雰囲気での熱処理が可能。厚膜焼成、電極乾燥、セラミック基板製造の実験用に最適な小型コンベア炉。
真空ベーク炉 真空ベーク炉 真空環境下での加熱処理を目的として開発された箱型電気炉(ボックス炉)。短タクトタイムでベーク、乾燥、脱脂、硬化、アニールなど多彩な処理が可能。
高温雰囲気ボックス炉 高温雰囲気ボックス炉 二珪化モリブデンヒーター採用で1600℃までの高温処理が可能。窒素(N2)、水素、真空など各種雰囲気での焼成、焼結、焼鈍が行える箱型電気炉(ボックス炉)。
小型真空炉 KBF848N-V 小型真空炉 KBF848N-V コンパクト、卓上タイプの実験用小型電気炉(箱型炉・ボックス炉)。真空、窒素(N2)雰囲気での高温処理が可能。
真空パージ式ボックス炉 MB炉 真空パージ式ボックス炉 MB炉 小型電気炉KBF1150℃タイプをフロア型ボックス炉としてリファイン。真空パージにより、窒素(N2)雰囲気置換時間を短縮。LTCC、MLCC製造に。
ラボオーブン KLOシリーズ ラボオーブン KLOシリーズ 実験・研究ラボ用として小型、卓上型でシンプルでありながら使い勝手の良い熱風循環式オーブンです。乾燥、キュア、アニール、焼き戻しなど多様な処理が可能。
ハイテンプオーブン HTOシリーズ ハイテンプオーブン HTOシリーズ 500℃までの高温処理が行えるサイドフロー熱風循環式オーブン。プログラム制御機能内蔵で乾燥、キュア、アニール、焼き戻しなど少量生産用としても使用可能。
ウルトラテンプオーブン UTOシリーズ ウルトラテンプオーブン UTOシリーズ 最高700℃までの高温処理が行えるウルトラハイテンプタイプの熱風循環式オーブン。焼成、灰化などの高温処理から乾燥などの低温処理まで幅広く使用可能。
イナートガスオーブン INLシリーズ イナートガスオーブン INLシリーズ 窒素(N2)雰囲気による低酸素(O2)濃度20ppm以下の環境で熱処理が行える熱風循環式オーブン。セラミック部品の脱バインダー(脱脂)や、アニールなどの効果的な熱処理を実現。
イナートガスオーブン INHシリーズ イナートガスオーブン INHシリーズ 最高使用温度600℃の高温で、窒素(N2)雰囲気による低酸素(O2)濃度20ppmを達成。セラミック部品の脱脂、各種無酸化処理で多くの実績を持つ生産向けタイプ。
小型イナートガスオーブン KLO-30NH 小型イナートガスオーブン KLO-30NH 小型・コンパクトサイズで実験・研究に最適な窒素(N2)雰囲気オーブン。脱バインダー、脱脂、アニールなどの熱処理を低酸素(O2)濃度300ppm以下で実現。
クリーンオーブン CLOシリーズ クリーンオーブン CLOシリーズ 内槽全周シール構造による高気密化でクラス100の空気清浄度を達成、窒素(N2)雰囲気の処理も可能。温度均一性に優れた熱風循環方式の採用でキュア、アニール処理の歩留まりを向上。
ハイテンプクリーンオーブン CLHシリーズ ハイテンプクリーンオーブン CLHシリーズ 耐熱高性能フィルターと独自冷却器の採用でクリーン環境下での高温ベークが可能。熱風循環方式でウェハー、ガラス基板のベーキング・エージング、ポリイミドキュア、アニールを高精度処理。
排ガス燃焼装置 GMシリーズ 排ガス燃焼装置 GMシリーズ セラミックの仮焼結、電子部品脱脂工程の排ガス中に含まれる有機物を完全燃焼。最高850℃での排出ガス加熱分解処理が可能。