製品情報
HOME > 製品情報 > 先端技術製造装置 > 真空乾燥装置 CCBS-V spec

真空乾燥装置 CCBS-V spec
Vacuum Dryer CCBS-V spec

第10世代までの液晶(LCD)、有機EL(OLED)基板の真空脱水ベーク、アニール処理が可能。
前後工程とのインライン化やロボット対応など様々な形態に対応。
真空乾燥装置 CCBS-Vspec

特長

  • 真空中での加熱処理が可能
    高輻射率の薄型パネルヒータを真空チャンバー内部に装着することにより、真空中での加熱処理が可能です。特に有機ELなど真空中での処理が必要なデバイスに最適です。
  • 大型基板への対応も可能
    第10世代への対応も可能です。
  • 様々な処理形態に対応可能
    前後工程装置との真空ロードロック接続や基板搬送ロボットを組み合わせたシステムなど、様々な処理形態に対応することが出来ます。

独自の薄型パネルヒータを真空チャンバー内に配置することで、第10世代までの大型液晶(LCD)基板で真空中での脱水ベークや高沸点溶剤の乾燥、アニール処理を可能にしています。

基板サイズ(mm) 300(W)×400(L)〜3000(W)×3200(L)
使用温度範囲 RT〜250℃
温度精度 ±3℃
クリーン度 Class 10 (0.3μm)
真空到達度 10-3Pa
用途 脱水ベーク、溶剤乾燥、アニール